濕膜去光阻液
濕膜去光阻液(Liquid Film PR Stripper)提供高效率、低成本的去光阻液。應用於半導體製程、高階IC封裝、光電產業、微機電應用等製程。可對應液態光阻、乾膜光阻、正/負型光阻。具有高效率、高 bath loading/bath life、低金屬腐蝕率、易於操作使用、低成本、製程廢液容易處理等特色。適用於 wet bench 與 spin tool 機台。
濕膜去光阻液(Liquid Film PR Stripper)提供高效率、低成本的去光阻液。應用於半導體製程、高階IC封裝、光電產業、微機電應用等製程。可對應液態光阻、乾膜光阻、正/負型光阻。具有高效率、高 bath loading/bath life、低金屬腐蝕率、易於操作使用、低成本、製程廢液容易處理等特色。適用於 wet bench 與 spin tool 機台。
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